激光刻膜机

1)CIGS 薄膜电池 P1 P2 P3  全激光刻划替代机械探针刻划

2)特殊尺寸规格和特殊技术要求定制

 

功能特点

技术参数

样品应用

产品标签

1)自动识别跟踪定位,玻璃翘曲自适应跟踪

2) 刻划过程无崩边、火山口、微短路

3)全自动全封闭高速度高精度一体化运行

4)适用于铜铟镓硒、碲化镉、有机钙钛矿、非晶硅等薄膜电池


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  • 有效加工幅面 1.1X1.1m   ( 635x1245mm )
    最大运行速度 2000mm/s
    平均刻膜速度 800-1500mm/s
    重复定位精度 10um
    最小刻膜线宽 30-60um
    三线外延总宽度 250-350um

    适用于非晶硅膜系太阳能电池的透明导电膜(FTO、AZO、BZO)、非晶硅膜(a-Si、uc-Si)、背电极膜(ZnO、AI)等的激光刻膜(刻线、切割)其他薄膜电池的膜层刻膜(碲化镉CdTe薄膜、CIGS金属钼Mo薄膜)

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